ナノテクノロジー ト レジスト ザイリョウ
ナノテクノロジーとレジスト材料 / 山岡亞夫監修
(CMCテクニカルライブラリー ; 256)
| データ種別 | 図書 |
|---|---|
| 版 | 普及版 |
| 出版者 | 東京 : シーエムシー出版 |
| 出版年 | 2007.4 |
| 本文言語 | 日本語 |
| 大きさ | vi, 253p ; 21cm |
所蔵情報を非表示
| 配架場所 | 請求記号 | 巻 次 | ISBN | 資料番号 | 資料状態 | 利用注記 | コメント | 予約・取寄 | 申込書 | 仮想書架 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 書庫2階 | 549.7:N483:2007 |
|
9784882319214 | 004861010 |
|
|
書誌詳細を非表示
| 別書名 | 原タイトル:新しいレジスト材料とナノテクノロジー 標題紙タイトル:Nano technology and polymer resist |
|---|---|
| 一般注記 | 初版 (2002年) のタイトル: 新しいレジスト材料とナノテクノロジー 文献: 節末 |
| 著者標目 | 山岡, 亜夫(1939-) <ヤマオカ, ツグオ> |
| 件 名 | BSH:リソグラフィー BSH:ナノテクノロジー |
| 分 類 | NDC8:549.7 NDC9:549.7 |
| 巻冊次 | ISBN:9784882319214 ; PRICE:3600円+税 
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| ISBN | 9784882319214 |
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