ニュウモン フォト マスク ギジュツ : LSI FPD PWB MEMS ノ タメ ノ フォト マスク
入門フォトマスク技術 : LSI, FPD, PWB, MEMSのためのフォトマスク / 田邉功, 竹花洋一, 法元盛久著
| データ種別 | 図書 |
|---|---|
| 出版者 | 東京 : 工業調査会 |
| 出版年 | 2006.12 |
| 本文言語 | 日本語 |
| 大きさ | 323p, 図版 [3] p : 挿図 ; 21cm |
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| 配架場所 | 請求記号 | 巻 次 | ISBN | 資料番号 | 資料状態 | 利用注記 | コメント | 予約・取寄 | 申込書 | 仮想書架 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 書庫2階 | 549.7:Ta833 |
|
4769312598 | 005745180 |
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書誌詳細を非表示
| 別書名 | 標題紙タイトル:Introduction to photomask technology 異なりアクセスタイトル:フォトマスク技術 : 入門 : LSI FPD PWB MEMSのためのフォトマスク |
|---|---|
| 一般注記 | 参考文献: 各章末 |
| 著者標目 | 田辺, 功(1937-) <タナベ, イサオ> 竹花, 洋一 <タケハナ, ヨウイチ> 法元, 盛久 <ホウガ, モリヒサ> |
| 件 名 | BSH:リソグラフィー NDLSH:フォトマスク |
| 分 類 | NDC8:549.7 NDC9:549.7 |
| 巻冊次 | ISBN:4769312598 ; PRICE:3800円+税 
|
| ISBN | 4769312598 |
| NCID | BA79886837 |
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