フォトレジスト ザイリョウ カイハツ ノ シンテンカイ
フォトレジスト材料開発の新展開 / 上田充監修
(CMCテクニカルライブラリー ; 562 . エレクトロニクスシリーズ)
| データ種別 | 図書 |
|---|---|
| 版 | 普及版 |
| 出版者 | 東京 : シーエムシー出版 |
| 出版年 | 2015.11 |
| 本文言語 | 日本語 |
| 大きさ | vii, 317p : 挿図 ; 26cm |
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| 配架場所 | 請求記号 | 巻 次 | ISBN | 資料番号 | 資料状態 | 利用注記 | コメント | 予約・取寄 | 申込書 | 仮想書架 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 書庫2階 | 549.7:F414:2015 |
|
9784781310398 | 007166721 |
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書誌詳細を非表示
| 別書名 | 標題紙タイトル:New trends of photoresists |
|---|---|
| 一般注記 | 2009年刊の普及版 文献: 各章末 |
| 著者標目 | 上田, 充(1948-) <ウエダ, ミツル> |
| 件 名 | BSH:リソグラフィー BSH:感光性樹脂 |
| 分 類 | NDC8:549.7 NDC9:549.7 |
| 巻冊次 | ISBN:9784781310398 ; PRICE:5000円 + 税 
|
| ISBN | 9784781310398 |
| NCID | BB19937937 |
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