フォトレジスト ザイリョウ カイハツ ノ シンテンカイ
フォトレジスト材料開発の新展開 / 上田充監修
(CMCテクニカルライブラリー ; 562 . エレクトロニクスシリーズ)
データ種別 | 図書 |
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版 | 普及版 |
出版情報 | 東京 : シーエムシー出版 , 2015.11 |
本文言語 | 日本語 |
大きさ | vii, 317p : 挿図 ; 26cm |
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配架場所 | 請求記号 | 巻 次 | ISBN | 資料番号 | 資料状態 | 利用注記 | コメント | 予約・取寄 | 申込書 | 仮想書架 |
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書庫2階 | 549.7:F414:2015 |
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9784781310398 | 007166721 |
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書誌詳細を非表示
別書名 | 標題紙タイトル:New trends of photoresists |
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一般注記 | 2009年刊の普及版 文献: 各章末 |
著者標目 | 上田, 充(1948-) <ウエダ, ミツル> |
件 名 | BSH:リソグラフィー BSH:感光性樹脂 |
分 類 | NDC8:549.7 NDC9:549.7 |
巻冊次 | ISBN:9784781310398 ; PRICE:5000円 + 税 |
ISBN | 9784781310398 |
NCID | BB19937937 |
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