ナノテクノロジー ト レジスト ザイリョウ
ナノテクノロジーとレジスト材料 / 山岡亞夫監修
(CMCテクニカルライブラリー ; 256)
データ種別 | 図書 |
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版 | 普及版 |
出版情報 | 東京 : シーエムシー出版 , 2007.4 |
本文言語 | 日本語 |
大きさ | vi, 253p ; 21cm |
所蔵情報を非表示
配架場所 | 請求記号 | 巻 次 | ISBN | 資料番号 | 資料状態 | 利用注記 | コメント | 予約・取寄 | 申込書 | 仮想書架 |
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書庫2階 | 549.7:N483:2007 |
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9784882319214 | 004861010 |
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書誌詳細を非表示
別書名 | 原タイトル:新しいレジスト材料とナノテクノロジー 標題紙タイトル:Nano technology and polymer resist |
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一般注記 | 初版 (2002年) のタイトル: 新しいレジスト材料とナノテクノロジー 文献: 節末 |
著者標目 | 山岡, 亜夫(1939-) <ヤマオカ, ツグオ> |
件 名 | BSH:リソグラフィー BSH:ナノテクノロジー |
分 類 | NDC8:549.7 NDC9:549.7 |
巻冊次 | ISBN:9784882319214 ; PRICE:3600円+税 |
ISBN | 9784882319214 |
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