ヒカリ レイキ プロセス ノ キソ : プロセス ノ テイオン ムソンショウカ オ ジツゲン
光励起プロセスの基礎 : プロセスの低温・無損傷化を実現 / 高橋清[ほか]編著
| データ種別 | 図書 |
|---|---|
| 出版情報 | 東京 : 工業調査会 , 1994.3 |
| 本文言語 | 日本語 |
| 大きさ | 266p ; 21cm |
所蔵情報を非表示
| 配架場所 | 請求記号 | 巻 次 | ISBN | 資料番号 | 資料状態 | 利用注記 | コメント | 予約・取寄 | 申込書 | 仮想書架 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 書庫2階 | 549:Ta335h |
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4769311222 | 001524891 |
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