プロセス ノ キソ
プロセスの基礎 / 西沢潤一編
(半導体研究 / 半導体研究振興会編 ; 20 . 超LSI技術 ; 7)
| データ種別 | 図書 |
|---|---|
| 出版情報 | 東京 : 工業調査会 , 1983.8 |
| 本文言語 | 日本語 |
| 大きさ | 394p ; 27cm |
所蔵情報を非表示
| 配架場所 | 請求記号 | 巻 次 | ISBN | 資料番号 | 資料状態 | 利用注記 | コメント | 予約・取寄 | 申込書 | 仮想書架 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 集密書庫(図書) | 549:H295:v.20 |
|
4769310323 | 840134532 |
|
|
書誌詳細を非表示
| 一般注記 | 各章末:参考文献 |
|---|---|
| 著者標目 | 西沢, 潤一(1926-) <ニシザワ, ジュンイチ> |
| 件 名 | NDLSH:半導体 |
| 分 類 | NDC8:549 NDLC:ND371 |
| 巻冊次 | ISBN:4769310323 ; PRICE:16000円 
|
| ISBN | 4769310323 |
| NCID | BN00282815 |
目次／あらすじ
類似資料
この資料の利用統計
このページへのアクセス回数：2回
※2021年9月12日以降
全貸出数：1回
(3か月以内の貸出：0回)
※2002年7月22日以降